ChemTec LPH3753TWNO 防腐流量開關，怎樣穩定監測半導體濕法清洗藥液回路？

更新時間：2026-07-22

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在半導體濕法清洗工序中，酸堿藥液循環管路的流體狀態直接影響晶圓清洗品質。一旦管路出現斷流、流量不足，極易造成晶圓表面蝕刻不均、清洗缺陷，帶來高額生產損耗，因此腐蝕性藥液回路需要可靠的流量監測部件，ChemTec LPH3753TWNO 防腐流量開關成為眾多設備廠商的優選方案。

這款流量開關為活塞磁簧式結構，殼體采用 PTFE 特氟龍材質，可耐受各類強酸、強堿、剝離液、蝕刻液等化學介質，完的美的適配半導體濕制程腐蝕工況，解決普通亞克力流量開關不耐化學藥液、容易被腐蝕開裂的痛點。

工作時，藥液自下而上流通，推動腔體內部帶磁活塞向上位移，達到設定流量閾值后，內置磁鐵觸發干簧管，輸出無源開關信號；當管路斷流或者流量偏低，活塞依靠自重回落，觸點隨即復位，及時向控制系統推送報警信號，實現藥液回路斷流預警與設備聯鎖保護。

和常規可視型流量開關相比，LPH3753TWNO 側重強腐蝕場景，全 PTFE 過流腔體無易腐蝕密封件，介質僅接觸特氟龍與內部惰性組件，大幅降低藥液滲漏風險。無需復雜供電改造，無源觸點可以直接對接 PLC、設備控制器，安裝便捷，僅要求垂直安裝、介質流向自下而上，就能長期穩定運行。

應用價值

半導體濕法清洗、蝕刻、顯影設備的藥液循環管路，介質具備強腐蝕性，常規流量監測元件很容易被藥液侵蝕失效。ChemTec LPH3753TWNO 依靠優異耐化學特性，持續監測藥液通斷狀態，第一時間發現管路堵塞、泵體空轉、管路漏液等異常，及時停機保護晶圓，減少不良品產出，保障半導體濕法工藝流程連續穩定。

選型小提示

若工況為冷卻水、弱腐蝕潔凈液體，可選用同系列亞克力可視款 LPH3753AWNO；當介質是強酸堿化學藥液，優先選用 PTFE 材質 LPH3753TWNO 防腐流量開關，匹配不同流體場景的監測需求。

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