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更新時間:2026-07-27
瀏覽次數:23Sonosys® Digital Generator(數字式兆聲波發生器)是專為半導體及精密微電子行業打造的新一代兆聲波清洗核心驅動單元。該設備采用全數字控制技術替代傳統模擬電路,支持通過Modbus協議實現遠程功率管理、頻率與占空比調節,并具備實時運行數據監控能力。整機采用緊湊型19英寸模塊化機架結構,支持多模塊集成于同一EMC屏蔽機箱內,既有效節省系統安裝空間,又極大提升了設備的維護便捷性與產線擴展能力。

項目 | 規格說明 |
|---|---|
頻率范圍 | 400 kHz – 9 MHz(覆蓋從粗洗到亞微米級精密清洗的全頻段需求) |
輸出功率 | 模塊化設計,單模塊輸出功率可調(如MLM模塊最高60W/模塊,MHM系列可達2000W@400kHz–1MHz) |
功率調節 | 各模塊獨立可調,支持本地LCD面板或遠程接口精確設定 |
通信接口 | 標配Modbus通信協議,支持遠程控制功率、開關機、頻率及占空比 |
監控功能 | 實時監測內部溫度、實際輸出功率及故障狀態,數據直觀顯示于LCD屏 |
結構設計 | 緊湊型EMC屏蔽19英寸機箱,支持多模塊熱插拔集成,安裝支架適配標準機柜 |
配套軟件 | 提供專用應用程序(App)用于參數配置、運行狀態監控及數據分析 |
安全特性 | 集成干運行檢測(Dry Run Detection)、自動頻率追蹤算法、低反射功率拓撲設計 |
• 極的致的緊湊,優化空間利用
•全數字控制,工藝高度一致
•自適應調諧,能效轉化優異
•全的方位監控,運行安全無憂
•廣泛兼容,保護客戶投資
應用領域 | 工藝環節 | 清洗對象 |
|---|---|---|
半導體制造 | 晶圓預清洗 / SC1清洗 / Post-CMP清洗 | 納米級顆粒、CMP漿料殘留、金屬離子污染 |
光刻工藝 | 光刻膠去除(Stripping)輔助工藝 | 亞微米級光刻膠殘留物 |
先進封裝 | TSV硅通孔、3D IC封裝清洗 | 微孔及窄縫內的頑固污染物 |
MEMS / 微納加工 | 濕法刻蝕后清洗 | MEMS敏感微結構表面的微粒 |
平板顯示 / 光學 | 玻璃基板、精密光學元件制程 | 亞微米顆粒、有機殘留及微觀缺陷 |
• 通信對接:利用標準的Modbus接口協議,將發生器無縫接入現有產線的主控系統,實現集中監控、數據追溯及工藝配方化管理。
• 模塊配置:根據實際清洗槽/噴嘴的數量及所需總功率預算,靈活選擇MLM(低功率多模塊分布式)或MHM(高功率集中式)組合方案。
• 換能器匹配:推薦選用原廠配套噴嘴或振板以獲得最佳諧振效果;如有特殊需求,可通過標準50Ω端口適配第三方換能器