在半導體晶圓制造、精密機械加工、光學元件檢測等領域，表面粗糙度（Sa/Ra）和臺階高度的測量精度，直接決定了產品的最終良率與可靠性。然而，長期以來，要實現納米級精度的表面測量，企業往往不得不面對一個令人頭疼的現實：昂貴的防振臺、苛刻的潔凈室環境、以及動輒數十分鐘的漫長等待。

AFM（原子力顯微鏡）作為傳統的高精度測量工具，雖然分辨率可達納米級，但其對安裝環境的嚴苛要求——必須配備價格約200萬日元的防振臺、需要潔凈室環境、測量范圍通常局限在50μm×50μm、單次測量耗時5～15分鐘——使得它更多只能作為抽檢工具，難以真正融入生產線。

那么，有沒有一種設備，既能達到AFM級的測量精度，又能擺脫防振臺和潔凈室的束縛，在車間現場實現快速、全數檢查？

TWIN NINES TN-A1非接觸激光干涉儀，給出了肯定的答案。

技術解密：為什么TN-A1不需要防振臺？

要理解TN-A1為何能在任意場地穩定工作，首先需要了解其核心技術——光學外差干涉測量系統。

傳統的光學干涉測量儀（如白光干涉儀）依賴干涉條紋的分布來分析表面形貌，對外界振動極其敏感，稍有擾動就會導致條紋模糊、測量失效，因此必須配備昂貴的防振臺-。

而TN-A1采用的光學外差干涉法，則是通過分析兩束激光之間相位差的變化來獲取表面高度信息。具體來說，一束激光經聚焦后作為測量光探針掃描工件表面，另一束作為參考光束，兩束光反射后產生干涉，測量信號與參考信號的相位差直接反映表面高度變化。由于這種測量方式不依賴干涉條紋的空間分布，而是基于光波長的相位差進行檢測，因此對外部干擾噪聲具有很強的抗性。

簡單來說：別人的測量靠“看條紋"，TN-A1的測量靠“算相位差" 。前者怕振動，后者不怕。這就是TN-A1無需防振臺、無需潔凈室、可以放在研磨加工機旁邊直接使用的根本原因。

核心價值：TN-A1能為您解決什么？

1. 任意場地，即放即測

無需防振臺（節省約200萬日元設備投入），無需真空設備，無需潔凈室。設備本體僅重約27kg，外形尺寸W220×D550×H420mm，可靈活部署在車間、產線旁、實驗室等任何需要測量的地方。

2. AFM級別的測量精度

以光的波長為基準，采用光學外差干涉法實現高度方向分辨率0.1nm（1nm=十億分之一米），與AFM具有測量兼容性。標準高度測量范圍0.5nm至300nm-
，足以覆蓋從超光滑表面到微細臺階的各類測量需求。

3. 25秒完成測量，效率提升數十倍

測量100μm×100μm區域僅需25秒，而AFM完成同樣任務通常需要5～15分鐘，這意味著TN-A1不僅可以用于抽檢，更能實現產線全數檢查，幫助企業在第一時間發現工藝偏差、及時調整參數，從而顯著提升良品率。

4. 非接觸，無損測量

采用紅色激光（波長632.8nm）進行非接觸式測量，不會對被測物體產生任何物理接觸或損傷。對于晶圓、光學鏡片、薄膜等精密部件而言，這一點尤為重要——接觸式測量可能劃傷表面或污染樣品，而非接觸式測量則完的全的避免了這些風險。

5. 大范圍、多點自動測量

載物臺X軸可移動45mm、Y軸可移動45mm，在此范圍內可實現多點自動測量。無論是小尺寸的芯片局部，還是大尺寸的晶圓全面檢測，均可靈活應對。

6. 操作簡單，無需專業人員

只需將樣品放置在指定夾具上，設定對焦和測量范圍等基本條件即可開始測量。無需對樣品進行特殊預處理，不使用真空設備，無需專門的操作員即可操作。

7. 運行成本極低

幾乎沒有消耗品，無需更換探針（AFM需定期更換探針），激光輸出僅幾毫瓦，節能安全。設備本體價格約為AFM的30%～50%——無論是初期投入還是長期運營，都大幅降低了企業的測量成本。

典型應用場景

TN-A1廣泛應用于半導體晶圓表面粗糙度控制與臺階高度測量、精密加工與CMP（化學機械拋光）質量評估、光學元件表面光潔度檢測、以及VLSI標準片等各類標準樣品的校準測量。無論是晶圓表面的2D形狀測量，還是鉭酸鋰（LT）基板等特殊材料的表面分析，TN-A1都能提供與AFM具有互換性的可靠數據。

結語

長期以來，高精度表面測量似乎總與“昂貴"“嬌貴"“緩慢"這些詞綁定在一起。防振臺、潔凈室、漫長的等待——這些似乎成了追求納米級精度的“必要代價"。

TWIN NINES TN-A1的出現，打破了這一固有認知。它以光學外差干涉法為核心，用相位差測量替代了條紋觀測，讓納米級表面測量從此擺脫了防振臺和潔凈室的束縛。25秒的測量速度、0.1nm的分辨率、任意場地的靈活部署——這些特性加在一起，意味著企業終于可以在產線旁、在加工機附近、在任何需要的地方，對每一片晶圓、每一個精密部件進行快速、精準的全數檢查。不再受限于場地，不再受限于時間。TN-A1，讓納米級表面測量真正走進了生產一線。

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