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半導(dǎo)體 CMP 過濾解決方案|控制漿料大顆粒減少晶圓工藝缺陷

更新時(shí)間:2026-08-20      瀏覽次數(shù):20

在半導(dǎo)體制造流程中,化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是實(shí)現(xiàn)晶圓全局平坦化的核心工序。拋光漿料的顆粒狀態(tài),直接決定晶圓成品品質(zhì)。漿料內(nèi)部異常大顆粒、顆粒尺寸波動(dòng)、顆粒濃度不穩(wěn)定,極易在晶圓表面產(chǎn)生劃傷、凹坑等各類工藝缺陷,直接造成產(chǎn)品報(bào)廢,帶來物料損耗、產(chǎn)能浪費(fèi)以及生產(chǎn)成本上升,因此一套可靠的 CMP 漿料過濾方案是保障生產(chǎn)良率的關(guān)鍵。


CMP 過濾的核心目標(biāo),就是對(duì)漿料顆粒尺寸、顆粒形態(tài)以及大顆粒(LPC)密度進(jìn)行精準(zhǔn)管控,將各項(xiàng)參數(shù)穩(wěn)定約束在工藝允許的區(qū)間內(nèi)。通過專業(yè)過濾設(shè)計(jì),有效濾除漿料內(nèi)有害大顆粒雜質(zhì),降低晶圓缺陷發(fā)生率,提升整體工藝良率。優(yōu)質(zhì)過濾不僅僅是簡單攔截雜質(zhì),還可以改善漿料整體品質(zhì),幫助工廠實(shí)現(xiàn)綜合成本下降。結(jié)合現(xiàn)場(chǎng)工況部署過濾裝置,還可以提升漿料過濾通量,適配漿料供給端、分配管路、設(shè)備使用點(diǎn)等不同環(huán)節(jié)的過濾需求。


囊式過濾器是 CMP 使用點(diǎn)(POU)場(chǎng)景的主流解決方案。以 Kleen?Change® 內(nèi)聯(lián)囊式過濾器為例,濾材支持定制化,能夠適配多種晶圓平坦化工藝。其中 Profile Nano 濾材采用行業(yè)超細(xì)熔噴纖維制作,對(duì)比普通熔噴過濾產(chǎn)品,缺陷抑制能力更為突出。過濾器內(nèi)部采用分段分級(jí)過濾設(shè)計(jì),不同過濾區(qū)段設(shè)置差異化過濾精度,在過濾器縱深方向?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的顆粒負(fù)載,保證過濾全程截留效果穩(wěn)定。


CMP Starkleen Nano 囊式過濾器繼承 Profile Nano 全部技術(shù)優(yōu)勢(shì),擁有超細(xì)纖維材質(zhì)與優(yōu)化分級(jí)過濾規(guī)格,同時(shí)兼顧更大過濾尺寸與定制適配能力。該囊式過濾器提供 4.5"、8.5" 和 13" 多種長度規(guī)格,配備 flaretek 和 NPT 兩類接口配件,滿足不同設(shè)備管路對(duì)接需求。


在實(shí)際半導(dǎo)體拋光系統(tǒng)中,漿料過濾器主要存在三個(gè)典型安裝位置。第一,漿料再循環(huán)與全局回路上,對(duì)循環(huán)漿料做持續(xù)過濾凈化;第二,設(shè)備使用點(diǎn) POU,囊式過濾器就近安裝于拋光工具附近,在漿料接觸晶圓前完成把關(guān)過濾;第三,漿料供應(yīng)端管路,實(shí)現(xiàn)從原料包裝桶到現(xiàn)場(chǎng)儲(chǔ)罐進(jìn)料階段的過濾防護(hù)。


豐富的濾材類型與結(jié)構(gòu)選型,能夠充分滿足基材、襯材廠商對(duì)于超光滑晶圓的生產(chǎn)制造要求。整套完整的 CMP 過濾系統(tǒng)落地之后,可以帶來多方面實(shí)際生產(chǎn)收益:

  • 強(qiáng)化工藝管控能力,提升整套 CMP 制程穩(wěn)定性;

  • 提高單位面積產(chǎn)出,改善工藝生產(chǎn)效率;

  • 延長過濾器使用壽命,有效提高漿料過濾通量;

  • 攔截有害大顆粒,顯著減少晶圓表面工藝缺陷;

  • 優(yōu)化漿料供應(yīng)系統(tǒng)的維護(hù)周期,降低運(yùn)維頻次。


綜上,針對(duì) CMP 全流程的過濾解決方案,從漿料循環(huán)、原料輸送到設(shè)備使用點(diǎn),全鏈路管控漿料大顆粒,從源頭減少晶圓缺陷,為半導(dǎo)體平坦化工藝提供穩(wěn)定可靠保障。






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